エバネッセント光を利用した平滑化技術の開発

1. 研究背景

半導体デバイスの高性能化により，工具や砥粒などの接触をともなわない，無欠陥の平坦化加工技術の需要が高まっています. 本研究室ではエバネッセント光という全反射時に物質界面に局在する光による新しい平滑化手法を提案しています．

2. 概要

ガラスと薬品の界面で光を全反射させることによりエバネッセント光が生じます．光が照射された領域が選択的に溶解する化学反応により，エバネッセント光が局在する半導体の凸部が選択的に溶解します（図1）．

3. 今後の展望

エネルギー加工による欠陥フリーの新たな半導体平滑化技術の実現を目指しています．