エバネッセント光
研究内容
光の波長程度の領域に局在する光で，半導体の加工を行います．
半導体デバイスの高性能化により，ウェーハの平坦化加工の重要性が高まっています. ウェーハの平坦加工にエバネッセント光を応用することを目指し，加工技術の開発に取り組んでいます．
ガラス上にウェーハを置き，エッチャントを垂らします．レーザを照射し， ウェーハの近くで全反射させることによってエバネッセント光が生じ（図1） ，加工を行います．
エッチングによる加工方法なので， ウェーハに加工変質層ができないという利点があります．
研究中のテーマ
- 半導体の平坦化加工への応用
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